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BLE-1光亮低温化学镀镍工艺研究
引用本文:方景礼,叶向荣,辛建树.BLE-1光亮低温化学镀镍工艺研究[J].材料保护,1990,23(5):4-8.
作者姓名:方景礼  叶向荣  辛建树
作者单位:南京大学应用化学研究所 210008
摘    要:新开发的BLE-1光亮低温化学镀镍工艺,采用了新型的光亮剂ND-1和络合剂ND-2。本文研究了NiSO_4,NaH_2PO_2,NH_2,光亮剂ND-1,络合剂ND-2的浓度以及镀液温度和pH值对沉积速度的影响,还讨论了施镀时间对沉积速度的影响。实验结果表明,该工艺具有优良的镀层光亮性和镀液稳定性。镀层含磷量2~8%,通过控制镀液pH值,可以得到低磷(2~4%)和中磷(7~8%)镀层。该工艺现已用于国内一些厂家的工业生产。

关 键 词:化学镀镍
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