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铀表面等离子体浸没离子注入沉积制备氮化层+Ti/TiN多层膜的结构与性能
引用本文:黄河,白彬,赖新春,刘天伟,严东旭,龙重.铀表面等离子体浸没离子注入沉积制备氮化层+Ti/TiN多层膜的结构与性能[J].材料保护,2010,43(2).
作者姓名:黄河  白彬  赖新春  刘天伟  严东旭  龙重
作者单位:表面物理与化学国家重点实验室,四川,绵阳,621900;表面物理与化学国家重点实验室,四川,绵阳,621900;表面物理与化学国家重点实验室,四川,绵阳,621900;表面物理与化学国家重点实验室,四川,绵阳,621900;表面物理与化学国家重点实验室,四川,绵阳,621900;表面物理与化学国家重点实验室,四川,绵阳,621900
基金项目:表面物理与化学国家重点实验室支持项目 
摘    要:为了改善金属铀的摩擦磨损和抗腐蚀性能,采用等离子体浸没离子注入沉积(PIII&D)技术在铀表面氮化,再沉积Ti/TiN多层膜.利用扫描电镜和X射线衍射分析了薄膜的形貌和组织结构;对薄膜的摩擦磨损和抗湿热腐蚀性能进行了测试.结果表明:薄膜表面致密,界面晶粒柱状生长方式被阻断,晶粒细化;薄膜为Ti和TiN的双相结构,衍射谱中出现了UO_2和U_2N_3的衍射峰;薄膜大大提高了铀基体的摩擦磨损和抗湿热腐蚀性能,调制周期对薄膜性能的影响较大.

关 键 词:氮化  Ti/TiN多层膜  等离子体浸没离子注入沉积    性能

Microstructure and Properties of Nitriding Layer +Ti/TiN Multilayer Films on Uranium Prepared by Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition
HUANG He,BAI Bin,LAI Xin-chun,LIU Tian-wei,YAN Dong-xu,LONG Zhong.Microstructure and Properties of Nitriding Layer +Ti/TiN Multilayer Films on Uranium Prepared by Plasma Immersion Ion Implantation and Deposition[J].Journal of Materials Protection,2010,43(2).
Authors:HUANG He  BAI Bin  LAI Xin-chun  LIU Tian-wei  YAN Dong-xu  LONG Zhong
Affiliation:HUANG He,BAI Bin,LAI Xin-chun,LIU Tian-wei,YAN Dong-xu,LONG Zhong( State Key Laboratory for Surface Physics , Chemistry,Mianyang 621900,China)
Abstract:
Keywords:nitriding  Ti/TiN multilayer films  uranium  properties
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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