| DMF中电沉积制备Yb-Co合金膜 |
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| 引用本文： | 苟劲,徐红,谷历文.DMF中电沉积制备Yb-Co合金膜[J].材料保护,2000,33(11):13-14. |
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| 作者姓名： | 苟劲 徐红 谷历文 |
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| 作者单位： | 1. 重庆师范学院化学系 400047
2. 广东省东莞市技术监督局质检所 523120 |
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| 摘 要： | 研究了于室温下含有少量水的ＹｂＣｌ３－ＣｏＣｌ２－ＤＭＦ溶液中电沉积制备Ｙｂ－Ｃｏ合金膜。ＥＤＡＸ和ＸＲＤ分析表面：在０．１０ｍｏｌ／Ｌ ＹｂＣｌ３－０．１０ｍｏｌ／Ｌ ＣｏＣｌ２的ＤＭＦ电镀液中，以控制电位为－２．７５Ｖ（ＳＣＥ）进行恒电位电解，以控制电流密度为１００Ａ／ｍ＾２进行恒电流电解或以控制脉冲电流密度为１５０Ａ／ｍ＾２进行脉冲电解，可以得到不同形态和Ｙｂ含量的共沉积合金膜，且膜层光滑、
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| 关 键 词： | 共沉积 恒电位 恒电流 脉冲 Yb－Co合金膜 |
| 文章编号： | 1001-1560(2000)11-0013-02 |
Preparation of Yb-Co Alloy Film on Copper by Electrodeposition |
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| GOU Jing,XU Hong,Gu Li-wen.Preparation of Yb-Co Alloy Film on Copper by Electrodeposition[J].Journal of Materials Protection,2000,33(11):13-14. |
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| Authors: | GOU Jing XU Hong Gu Li-wen |
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