硅烷及其杂质的气相色谱分析

制备多晶硅时，用液氨法在低温下产生的硅烷，除主成份SiH4外，尚含H2、微量NH3、Si2H6、CH4、H2O、O2、N2、PH3，以及痕量的B2H8和AsH3等杂质，而其中有些杂质，如CH4、H2O、N2等，主要由液氨带入。因此，要加强原材料的分析，严格监控工艺过程中硅烷气内的有害杂质，采取必要的纯化措施。这样，将大大提高由分解炉中析出的多晶硅质量。