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| 高纯一氧化碳中痕量CO2和CH4的分析 | |
| 引用本文： | 王淑娟.高纯一氧化碳中痕量CO2和CH4的分析[J].低温与特气,1988(1):49-51. |
| 作者姓名： | 王淑娟 |
| 作者单位： | 化工部光明化工研究所 |
| 摘 要： | 高纯CO已广泛用于冶金，化工和科技等领域。激光技术等许多部门对CO的纯度要求较高。我所在研制高纯CO的同时，进行了高纯CO中痕量杂质的分析研究。本文介绍了对CO中CO2和CH4的分析方法。 |
| 关 键 词： | CH4 CO2 高纯 一氧化碳 激光技术 痕量杂质 |
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