| 以W为中间层的C/W多层膜的微观结构及性能研究 |
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| 引用本文： | 陈迪春,蒋百灵,时惠英,付杨洪.以W为中间层的C/W多层膜的微观结构及性能研究[J].材料工程,2011(4):33-37. |
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| 作者姓名： | 陈迪春 蒋百灵 时惠英 付杨洪 |
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| 作者单位： | 1. 西安理工大学现代分析测试中心,西安,710048
2. 西安理工大学材料科学与工程学院,西安,710048 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目 |
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| 摘 要： | 利用非平衡磁控溅射技术在钢基体上制备以W为中间层的C/W多层膜,使用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)和透射电子显微镜(TEM)对镀层的表面形貌,相组成及截面微观结构进行分析;测试镀层的膜基结合强度和摩擦性能.结果表明:C/W多层膜是由非晶碳和WC纳米晶组成的复合镀层,具有明显的层状结构,周期厚度为6.5...
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| 关 键 词： | 磁控溅射 C/W多层膜 微观结构 结合强度 摩擦性能 |
Investigation of Microstructure and Performance of C/W Multilayer Coatings with W Interlayer |
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| CHEN Di-chun,JIANG Bai-ling,SHI Hui-ying,FU Yang-hong.Investigation of Microstructure and Performance of C/W Multilayer Coatings with W Interlayer[J].Journal of Materials Engineering,2011(4):33-37. |
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| Authors: | CHEN Di-chun JIANG Bai-ling SHI Hui-ying FU Yang-hong |
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