| 低介电常数纯硅数分子筛薄膜的制备与表征 |
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| 引用本文： | 袁昊,解丽丽,田震,王利军.低介电常数纯硅数分子筛薄膜的制备与表征[J].材料工程,2008(10). |
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| 作者姓名： | 袁昊 解丽丽 田震 王利军 |
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| 作者单位： | 上海第二工业大学,城市建设与环境工程学院,上海,201209;上海第二工业大学,城市建设与环境工程学院,上海,201209;上海第二工业大学,城市建设与环境工程学院,上海,201209;上海第二工业大学,城市建设与环境工程学院,上海,201209 |
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| 基金项目： | 上海市重点学科建设项目，上海市教育发展基金会资助项目 |
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| 摘 要： | 介绍了一种制备具有低介电常数氧化硅分子筛薄膜的新方法.以正硅酸乙酯为硅源,四丙基氢氧化铵(TPAOH)为模板剂和碱源,采取水热晶化技术,通过原位法在硅晶片表面制备出纯二氧化硅透明分子筛薄膜;采用紫外光解法脱除分子筛薄膜孔道内的模板剂,制备出具有低介电性能的氧化硅分子筛薄膜.使用FT-IR,XRD和SEM对样品进行了结构表征,并采用阻抗分析仪测量了薄膜的介电常数,采用纳米硬度计测量薄膜的弹性模量和硬度.
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| 关 键 词： | 紫外光解法 有机模板剂 氧化硅分子筛薄膜 |
Application of Ultraviolet Treatment on Synthesis of Pure-silica Zeolite Low Dielectric Constant Thin Films |
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| YUAN Hao,XIE Li-li,TIAN Zhen,WANG Li-jun.Application of Ultraviolet Treatment on Synthesis of Pure-silica Zeolite Low Dielectric Constant Thin Films[J].Journal of Materials Engineering,2008(10). |
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| Authors: | YUAN Hao XIE Li-li TIAN Zhen WANG Li-jun |
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