|
|||||
|
|
| 脉冲激光气相沉积技术现状与进展 | |
| 引用本文： | 张超,吴卫东,陈正豪,周岳亮,孙卫国,唐永建,程新路.脉冲激光气相沉积技术现状与进展[J].材料导报,2003,17(12):73-76. |
| 作者姓名： | 张超 吴卫东 陈正豪 周岳亮 孙卫国 唐永建 程新路 |
| 作者单位： | 1. 四川大学原子与分子物理研究所,成都,610064;中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900 2. 中国科学院物理研究所,北京,100080 3. 四川大学原子与分子物理研究所,成都,610064 4. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳,621900 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金，国家高技术研究发展计划(863计划)，10276037，，， |
| 摘 要： | 介绍了脉冲激光沉积法(PLD)制备薄膜技术的原理、特点和这一研究领域的现状，着重介绍了脉冲激光沉积薄膜技术的研究动态和进展情况。大量研究表明，脉冲激光沉积法是一种最好的制备薄膜的方法之一。 |
| 关 键 词： | 脉冲激光气相沉积技术 PLD 薄膜制备 电学性能 |
Pulsed Laser Vapor Deposition Technology:Current Status and Research Progress |
|
| ZHANG Chao WU Weidong CHEN Zhenghao ZHOU Yueliang SUN Weiguo TANG Yongjian CHENG Xinlu.Pulsed Laser Vapor Deposition Technology:Current Status and Research Progress[J].Materials Review,2003,17(12):73-76. | |
| Authors: | ZHANG Chao WU Weidong CHEN Zhenghao ZHOU Yueliang SUN Weiguo TANG Yongjian CHENG Xinlu |
| Abstract: | In this paper, the principle and characteristics of pulsed laser deposition method and the current status of this area of research are reviewed. The development and trends of this new technique are analyzed emphatically. Much research has shown that pulsed laser vapor deposition is a new promising technique for growing thin films. |
| Keywords: | pulsed laser deposition ablation thin-films progress |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ | |