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| 微弧氧化技术及其发展 | |
| 引用本文： | 刘建平,旷亚非.微弧氧化技术及其发展[J].材料导报,1998,12(5):27-29. |
| 作者姓名： | 刘建平 旷亚非 |
| 作者单位： | 湖南大学化学化工学院，湖南大学化学化工学院 长沙 410082，长沙 410082 |
| 摘 要： | 主要介绍了微弧氧化技术的工艺机理，微弧氧化膜的制备方法，影响制备的因素以及氧化膜的结构和性质，并指出了该项技术的优点和不足。 |
| 关 键 词： | 微弧氧化 火花沉积 陶瓷膜 金属 氧化膜 涂层 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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