| ZnO薄膜生长技术的最新研究进展 |
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| 引用本文： | 汪雷.ZnO薄膜生长技术的最新研究进展[J].材料导报,2002,16(9):33-36. |
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| 作者姓名： | 汪雷 |
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| 作者单位： | 浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027 |
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| 基金项目： | 国家重大基础研究项目基金(编号No.G20000683-06) |
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| 摘 要： | ZnO是一种新型的Ⅱ-Ⅳ族半导体材料，目前已研究了开发了许多ZnO薄膜的生长技术，其中，磁控溅射，喷雾热分解，分子束外延，激光脉冲沉积，金属有机物化学气相外延等沉积技术得到了有效应用；而一些新的工艺方法，如溶胶－凝胶，原子层外延，化学浴沉积，离子吸附成膜，离子束辅助沉积，薄膜氧化等也进行了深入研究，详细阐述了ZnO薄膜生长技术的最新研究进展。
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| 关 键 词： | 研究进展 ZnO薄膜 生长技术 喷雾热分解 分子光外延 氧化锌 半导体材料 磁控溅射 |
Advances in Research on Deposition Techniques for ZnO Thin Films |
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| WANG Lei.Advances in Research on Deposition Techniques for ZnO Thin Films[J].Materials Review,2002,16(9):33-36. |
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| Authors: | WANG Lei |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | zmc oxide thin film deposition technique development and application |
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