室温下高速沉积AZO薄膜的研究 |
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引用本文: | 李伟民,郝会颖.室温下高速沉积AZO薄膜的研究[J].材料导报,2011(2):83-84. |
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作者姓名: | 李伟民 郝会颖 |
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摘 要: | 在室温下,采用射频磁控溅射技术以较大的功率密度(7W/cm^2)沉积了一系列掺铝氧化锌(AZO)透明导电薄膜,探索了溅射压强对沉积速率及薄膜性能的影响。结果表明,当工作压强为2.OPa时,高速(67nm/min)沉积得到的薄膜的电阻率为2.63×10^-3Ω·cm,可见光平均透过率为83%,并且在薄膜表面有一定的织构。
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关 键 词: | 室温 压强 AZO 高速 磁控溅射 |
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