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| 等离子体聚合有机硅复合膜的气体透过性 | |
| 引用本文： | 蔡士德,余学海.等离子体聚合有机硅复合膜的气体透过性[J].膜科学与技术,1989,9(3):8-11. |
| 作者姓名： | 蔡士德 余学海 |
| 作者单位： | 南京大学现代分析中心 (蔡士德)，南京大学化学系 (余学海)，南京大学现代分析中心(方江邻) |
| 摘 要： | 采用电感耦合无极放电形式在聚(二甲基硅氧烷)基质膜表面进行有机硅单体的等离子体聚合制成气体选择性透过膜。本文选择了6种有机硅单体:(1)六甲基二硅氧烷,(2)六甲基环三硅氧烷:(3)八甲基环四硅氧烷: (4)四甲基一1,3-二(羟丁基)一二硅氧烷:(5)四甲基一1,3-二(氯甲基)一二硅氧烷,和(6)四甲基一1,3一二(氨丙基)一二硅氧烷。制成的等离子体聚合复合膜具有较好的气体(O_2,N_2)透过选择性,其透气速率之比PO_2/PN_2最高可达4.20,而复合膜的气体透过速率仅略有下降。 |
| 关 键 词： | 有机硅复合膜 等离子体聚合 透气性 |
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