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| Ti1—xAlxN薄膜的制备及性能研究 | |
| 引用本文： | 熊锐,李佐宜.Ti1—xAlxN薄膜的制备及性能研究[J].真空科学与技术,1998,18(1):22-25. |
| 作者姓名： | 熊锐 李佐宜 |
| 作者单位： | 华中理工大学固体电子学系 |
| 摘 要： | 介绍了利用反应溅射法制备Ｔｉ１－ｘＡｌｘＮ薄膜的工艺过程，测量并分析了Ｔｉ１－ｘＡｌｘＮ薄膜的光学性能及电阻率与薄膜成分的关系。结果表明Ｔｉ１－ｘＡｌｎＸ薄膜的折射率和消光系数均随薄膜中Ａｌ含量ｘ的增加而减小，电阻率则随ｘ的增加而增大。并从薄膜的基本结构变化对实验结果作出解释。 |
| 关 键 词： | 薄膜 射频反应溅射 光学性质 电阻率 钛氮薄膜 |
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