光刻胶灰化用于全息离子束刻蚀光栅制作

针对全息离子束刻蚀衍射光栅制作中，光刻胶光栅浮雕图形的制作是至关重要和困难的，引入伤反应离子刻蚀对光刻胶光栅进行灰化处理，给出光刻胶灰化技术在全息离子束刻蚀衍射光栅制作闪耀光栅、浅槽矩形位相光栅、自支撑透射光栅中的具体应用。实验结果表明，这一新工艺的突出优点是降低了苛刻的全息曝光、显影要求，使得光栅线条光滑、线空比和槽深可控。