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热处理气氛对ZrO_2活性扩散障/NiCrAl涂层界面反应的影响
引用本文:刘林涛,李争显,华云峰,杜继红,杨晨曦,宗洋洋.热处理气氛对ZrO_2活性扩散障/NiCrAl涂层界面反应的影响[J].中国表面工程,2015,28(2):53-58.
作者姓名:刘林涛  李争显  华云峰  杜继红  杨晨曦  宗洋洋
作者单位:1. 西安建筑科技大学 冶金工程学院, 西安 710016; 2. 西北有色金属研究院 腐蚀与防护研究所, 西安 710043; 3. 东北大学 材料与冶金学院, 沈阳 110819
摘    要:为研究ZrO2活性扩散障的形成机制,采用电子束物理气相沉积技术(EB-PVD)在DD5镍基高温合金表面分别沉积ZrO2先驱层与NiCrAl涂层,分别在真空条件和大气条件下对试样进行温度为700,800及900℃,时间为5h的高温热处理。分析了试样的截面形貌、扩散反应区厚度以及ZrO2/NiCrAl涂层界面处的元素分布,并研究了热处理气氛对ZrO2/NiCrAl涂层界面反应的影响。结果表明:真空条件更有益于界面反应的进行,并发现经过900℃热处理5h后,ZrO2活性扩散障/NiCrAl涂层界面之间形成了致密的Al2O3阻挡层;而在大气气氛下,NiCrAl涂层中部分Al元素向表面扩散形成氧化膜,从而影响了ZrO2/NiCrAl涂层的界面反应。

关 键 词:界面反应    元素扩散    NiCrAl涂层    扩散障

Influences of Heat Treatment Atmosphere on Interface Reaction of ZrO2 Active Diffusion Barrier and NiCrAl Coating
LIU Lintao,LI Zhengxian,HUA Yunfeng,DU Jihong,YANG Chenxi,ZONG Yangyang.Influences of Heat Treatment Atmosphere on Interface Reaction of ZrO2 Active Diffusion Barrier and NiCrAl Coating[J].China Surface Engineering,2015,28(2):53-58.
Authors:LIU Lintao  LI Zhengxian  HUA Yunfeng  DU Jihong  YANG Chenxi  ZONG Yangyang
Abstract:
Keywords:interface reaction  element diffusion  NiCrAl coating  diffusion barrier
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