| 时间和电压对TC4合金表面等离子碳氮共渗层的影响 |
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| 引用本文： | 柳永康,谢发勤,胡宗纯,吴向清.时间和电压对TC4合金表面等离子碳氮共渗层的影响[J].中国表面工程,2007,20(5):37-40. |
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| 作者姓名： | 柳永康 谢发勤 胡宗纯 吴向清 |
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| 作者单位： | 西北工业大学,航空学院,西安,710072 |
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| 摘 要： | 应用液相等离子电解碳氮共渗技术，在NI-GN03、乙醇和甘油组成的电解液体系下，短时间内在TC4合金表面制备高硬度渗层。探索了时间和电压对膜层的硬度、厚度、相组织和微观形貌的影响。结果表明：随着时间的延长和工作电压的提高，渗层的硬度、厚度均有明显的提高，表面粗糙度变大。并得出了TC4合金进行等离子碳氮共渗的理想电压应控制在280V左右。
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| 关 键 词： | 液相 等离子 碳氮共渗 |
| 文章编号： | 1007-9289（2007）05-0037-04 |
| 修稿时间： | 2007-07-12 |
The Effect of Time and Voltage on Plasma Carbonitriding Layer of TC4 Alloy |
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| LIU Yong-kang,XIE Fa-qin,HU Zong-chun,WU Xiang-qing.The Effect of Time and Voltage on Plasma Carbonitriding Layer of TC4 Alloy[J].China Surface Engineering,2007,20(5):37-40. |
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| Authors: | LIU Yong-kang XIE Fa-qin HU Zong-chun WU Xiang-qing |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | liquid phase plasma carbonitriding |
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