| 磁控溅射CuCrMo薄膜耐126kV20kA电弧烧蚀性能 |
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| 引用本文： | 苗晓军,范艳艳,钱旦,李雁淮,宋忠孝,庞亚娟,郝留成.磁控溅射CuCrMo薄膜耐126kV20kA电弧烧蚀性能[J].中国表面工程,2022,35(4):238-247. |
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| 作者姓名： | 苗晓军 范艳艳 钱旦 李雁淮 宋忠孝 庞亚娟 郝留成 |
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| 作者单位： | 平高集团有限公司 平顶山 467001;西安交通大学金属材料强度国家重点实验室 西安 710049 |
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| 基金项目： | 国家电网有限公司总部科技项目“126 kV 真空灭弧室关键工艺技术研究及应用”资助项目(B491BG190013) |
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| 摘 要： | 提升真空断路器 CuCr 触头的抗电弧烧蚀能力是决定其能否应用于高压真空灭弧室的核心关键，尚未见有效触头材料或表面涂层改性技术使 CuCr 触头应用于 126 kV 以上真空灭弧室的报道。基于 CuCrMo 薄膜的优异电气性能，对沉积 CuCrMo 薄膜的真空灭弧室触头进行 126 kV 下的抗电弧烧蚀研究，并进行开断寿命的工程验证。采用磁控溅射技术在 CuCr50 真空触头片表面沉积 5 μm 厚的 CuCrMo 薄膜，对其进行 126 kV 20 kA 电流下 23 次的电寿命试验。利用 XRD、SEM 和 3D 共聚焦显微镜研究电弧烧蚀后表面形貌。研究结果表明：沉积 CuCrMo 薄膜的触头片，在纵向磁场和 126 kV 20 kA 条件下可有效分散电弧，较未镀膜触头片有更小电弧电流密度；经过 23 次电寿命试验后，表面烧蚀程度比未镀膜的触头片轻，表面粗糙度降低，提高了触头的开断寿命。为表面改性真空断路器 CuCr 触头在高电压大电流真空灭弧室的应用提供了有效工程依据。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 CuCrMo 电弧烧蚀 126 kV 真空断路器 电寿命 |
126 kV 20 kA Arc Erosion Resistance of CuCrMo Film Prepared by Magnetron Sputtering |
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| Miao Xiaojun,Fan Yanyan,Qian Dan,Li Yanhuai,Song Zhongxiao,Pang Yajuan,Hao Liucheng.126 kV 20 kA Arc Erosion Resistance of CuCrMo Film Prepared by Magnetron Sputtering[J].China Surface Engineering,2022,35(4):238-247. |
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| Authors: | Miao Xiaojun Fan Yanyan Qian Dan Li Yanhuai Song Zhongxiao Pang Yajuan Hao Liucheng |
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