TiO_2/O-′Sialon界面反应过程 |
| |
引用本文: | 刘欣,薛向欣,杨建,段培宁.TiO_2/O-′Sialon界面反应过程[J].中国有色金属学报,2005(8). |
| |
作者姓名: | 刘欣 薛向欣 杨建 段培宁 |
| |
作者单位: | 东北大学材料与冶金学院 沈阳110004
(刘欣,薛向欣,杨建),东北大学材料与冶金学院 沈阳110004(段培宁) |
| |
基金项目: | 国家自然科学基金资助项目(50202004) |
| |
摘 要: | 以反应烧结的O-′Sialon和金红石型TiO2为研究对象,设计制备了TiO2/O-′Sialon扩散偶,采用X射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)及电子探针微区分析(EPMA)等方法,对扩散偶的扩散界面及垂直于界面的断面进行了物相分析、形貌观察及元素面分布分析,并在此基础上探讨了TiO2/O-′Sialon界面反应过程。XRD结果表明:TiO2与O-′Sialon在界面处发生反应生成TiN和SiO2,但在1200℃时扩散反应程度微弱,界面处存在Sm2O3偏析,并且与SiO2生成Sm2Si2O7;SEM照片显示TiO2/O-′Sialon界面处存在不规则硅酸盐熔融层;EP-MA元素面分布分析表明Ti、Si等元素富集于硅酸盐熔融层内,只有微量元素扩散至基体内。综合分析结果得出,TiO2/O-′Sialon界面反应过程可分为三个阶段:物理接触阶段、熔融层形成及元素富集阶段、熔融层增长阶段。
|
关 键 词: | TiO2/O-′Sialon 扩散偶 界面反应 电子探针 |
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|