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| 石英基片双面抛光加工的研究 | |
| 引用本文： | 袁巨龙,袁哲俊,庞滔,董申.石英基片双面抛光加工的研究[J].金刚石与磨料磨具工程,1987(6). |
| 作者姓名： | 袁巨龙 袁哲俊 庞滔 董申 |
| 作者单位： | 哈尔滨工业大学 (袁巨龙，袁哲俊，庞滔)，哈尔滨工业大学(董申) |
| 摘 要： | 文中介绍采用二氧化硅微粉和锡抛光盘的行星式双面抛光法,在抛光压力100～300g/cm~2。抛光液浓度5～10wt%,抛光盘转速75～90rpm下,抛光石英基片,既可获得好的表面质量,又可保证有较高的抛光效率。 |
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