亚硝酸钠对7003铝合金化学机械抛光作用的影响研究

在碱性抛光液条件下,研究了氧化型缓蚀剂亚硝酸钠(Na NO2)对7003铝合金化学机械抛光(CMP)粗抛作用的影响机制。通过静态腐蚀试验及电化学实验分析了Na NO2对铝合金的缓蚀效果,并在此基础上研究了Na NO2的含量及p H值对铝合金CMP过程的作用机制,并对抛光后的材料去除率和表面粗糙度进行了分析。研究结果表明,在以过氧化氢为氧化剂的碱性抛光液条件下,当Na NO2的含量为0.5%时,能够有效促进铝合金表面氧化膜的形成,抑制铝合金在抛光过程中腐蚀速度,其缓蚀率为87.41%;Na NO2的加入,虽然降低了材料去除率,但提高了铝合金抛光后的表面质量。同时,发现抛光液的p H值对材料去除率影响较大,分析得,当p H=10时,抛光后的材料去除率最大,同时能够获得良好的表面形貌。