基于单磨粒划擦仿真的钛合金抛光机理研究

自由磨粒抛光被认为是最常用和最重要的抛光方法之一，抛光垫、自由磨粒和工件之间的相互作用形成了接触区域的材料去除，材料去除机理的研究对于抛光过程控制和工艺参数优化具有重要意义。建立了单磨粒划擦热-力耦合有限元模型，研究了钛合金抛光过程中的材料去除机理，发现了单个磨粒高速划擦过程中的“水漂效应”现象，且随着划擦速度的增加，这种效应越加明显。当在相同的划擦速度下减小划擦力时，材料去除方式由连续去除变为不连续去除。因此，当单个磨粒高速划擦时，会产生类似于轴向超声抛光的轨迹。该研究为钛合金抛光高速划擦过程中的微观材料去除机理提供了理论参考。