| 铂族金属化学气相沉积 |
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| 引用本文： | 郭珊云,周光月,陈志全,周伟,郑恩华,刘建.铂族金属化学气相沉积[J].贵金属,2000,21(4):49-53. |
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| 作者姓名： | 郭珊云 周光月 陈志全 周伟 郑恩华 刘建 |
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| 作者单位： | 昆明贵金属研究所,中国昆明,650221 |
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| 摘 要： | 化学气相沉积（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，ＣＶＤ）技术可用在高熔点金属如Ｍｏ、Ｒｅ、Ｗ等表面制备结合力好的铂族金属涂层。用ＣＶＤ法可得到具有微细晶粒的致密金属（无针孔）涂层，可制成大形状和形状复杂的制品，也可用于合金涂层的制备。本文介绍了该项技术的国外发展概况，并以高温抗氧化铱涂层（可耐受２０００℃高温）为代表，叙述了铂族金属涂层的特点以及该项技术在制备涂层过程中的基本步骤
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| 关 键 词： | 铂族金属 化学气相沉积 涂层 |
Platinum Metals Chemical Vapor Deposition |
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| Guo Shanyun,Zhou Guangyue,Chen Zhiquan,Zhou Wei,Zheng Enhua,Liu Jian.Platinum Metals Chemical Vapor Deposition[J].Precious Metals,2000,21(4):49-53. |
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| Authors: | Guo Shanyun Zhou Guangyue Chen Zhiquan Zhou Wei Zheng Enhua Liu Jian |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Pltinum metals Chemical vapor depositio\ |
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