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| 电源特性对电沉积非晶镀层的影响 | |
| 引用本文： | 张亚增,张季达,杜先智,高长魁,程玉正,苏志顺.电源特性对电沉积非晶镀层的影响[J].贵金属,1981(4). |
| 作者姓名： | 张亚增 张季达 杜先智 高长魁 程玉正 苏志顺 |
| 作者单位： | 安徽师范大学物理系，安徽师范大学物理系，安徽师范大学物理系，安徽师范大学物理系，芜湖科学实验工厂，芜湖科学实验工厂 |
| 摘 要： | 非晶材料的电沉积法,自问世以来,由于它所需的设备简单和制得材料形状的任意性等特点,因而引起了广泛的注意.但目前所得的非晶镀层一般在0.5mm以下,而且容易伴生晶粒.为了探索制得具有足够厚度的优质非晶镀层,必须认真研究影响电沉积非晶镀层质量的诸因素. |
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