| 等离子体光谱发射监控下制备的CrN薄膜及其性能 |
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| 引用本文： | 冶艳,鲍明东,尚魁平,葛培林.等离子体光谱发射监控下制备的CrN薄膜及其性能[J].热加工工艺,2011,40(22). |
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| 作者姓名： | 冶艳 鲍明东 尚魁平 葛培林 |
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| 作者单位： | 1. 中国矿业大学材料科学与工程学院,江苏徐州 221008;宁波工程学院材料工艺研究所,浙江宁波315016
2. 宁波工程学院材料工艺研究所,浙江宁波,315016 |
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| 摘 要： | 采用非平衡磁控溅射法制备CrN薄膜,研究了OEM值对CrN薄膜的硬度、成分、相结构及微观组织结构的影响.结果表明:在OEM调控下,CrN薄膜主要生成单一的CrN相；CrN薄膜硬度较高;结合强度较好;CrN薄膜呈柱状生长,生长纹理清晰,表面孔隙较少,致密度增加.
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| 关 键 词： | CrN薄膜 OEM 硬度 |
Properties of CrN Films Prepared Under Control of Plasma Spectra Emission |
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| YE Yan
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BAO Mingdong
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SHANG Kuiping
,
GE Peilin.Properties of CrN Films Prepared Under Control of Plasma Spectra Emission[J].Hot Working Technology,2011,40(22). |
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| Authors: | YE Yan BAO Mingdong SHANG Kuiping GE Peilin |
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