| Rietveld法定量分析NiCrBSi晶化涂层 |
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| 引用本文： | 郑振环. Rietveld法定量分析NiCrBSi晶化涂层[J]. 热加工工艺, 2009, 38(6) |
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| 作者姓名： | 郑振环 |
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| 作者单位： | 福州大学材料科学与工程学院,福建,福州,350108 |
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| 基金项目： | 福州大学科技发展基金 |
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| 摘 要： | 应用Jade7.0和MAUD软件对523℃和628℃热处理4、6h的NiCrBSi涂层X射线衍射网谱进行Rietveld全谱拟合定量分析.结果表明:两种软件拟合结果的Rwp值都在8%～11%,两者定量分析的结果相差不大.Rietveld定量分析结果表明,涂层中的γ-Ni相随热处理温度和热处理时间的增加而增加,揭示了涂层显微硬度值下降的原因.
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| 关 键 词： | 非晶涂层 晶化 Rietveld法定量分析 |
Rietveld Quantitative Phase Analysis of Crystallized NiCrBSi Coatings |
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| ZHENG Zhenhuan. Rietveld Quantitative Phase Analysis of Crystallized NiCrBSi Coatings[J]. Hot Working Technology, 2009, 38(6) |
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| Authors: | ZHENG Zhenhuan |
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| Keywords: | |
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