| 高速喷射电沉积块体纳米晶C0-Ni合金 |
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| 引用本文： | 乔桂英,荆天辅,高明,王艳,高聿为,韩东升.高速喷射电沉积块体纳米晶C0-Ni合金[J].材料热处理学报,2004,25(1):61-65. |
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| 作者姓名： | 乔桂英 荆天辅 高明 王艳 高聿为 韩东升 |
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| 作者单位： | 燕山大学,材料科学与工程学院,河北,秦皇岛,066004 |
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| 基金项目： | 河北省自然科学基金(598250);燕山大学科技发展基金资助 |
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| 摘 要： | 采用自制的高速喷射电沉积装置制备了块体纳米晶Co-Ni合金,利用SEM、TEM、XRD及EDS等方法研究了电流密度对沉积速率、电流效率及Co-Ni合金沉积层组织结构的影响,并与槽镀沉积层进行了对比.结果表明采用该方法后允许使用的极限电流密度、沉积速率及电流效率均显著增大,沉积速率高达47.33μm/min,是一般槽镀的90倍左右.随着电流密度的增加,沉积速率呈近似线性增加,但电流效率增大到一定值后基本不变.电流密度对沉积层成分影响不大,但明显减小沉积层的晶粒尺寸.与一般槽镀相比,晶粒尺寸由23.07nm减小到9.18nm.
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| 关 键 词： | 高速喷射电沉积 块体纳米晶Co-Ni合金 沉积速率 微观结构 |
| 文章编号： | 1009-6264(2004)01-0061-05 |
| 修稿时间： | 2003年7月14日 |
Study on High Speed Jet-electrodeposition Bulk Nanocrystalline Co-Ni Alloy |
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| QIAO Gui-ying,JING Tian-fu,GAO Ming,WANG Yan,GAO Yu-wei,Han Dong-sheng.Study on High Speed Jet-electrodeposition Bulk Nanocrystalline Co-Ni Alloy[J].Transactions of Materials and Heat Treatment,2004,25(1):61-65. |
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| Authors: | QIAO Gui-ying JING Tian-fu GAO Ming WANG Yan GAO Yu-wei Han Dong-sheng |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | high speed jet-electrodepositon bulk nanocrystaline Co-Ni alloy depositing rate microstructure |
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