| 电弧离子镀TiN工艺优化及TiN/TiC多层膜性能 |
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| 引用本文： | 谢仕芳,张栋,孙丽丽,王振玉,魏仕勇,柯培玲,汪爱英.电弧离子镀TiN工艺优化及TiN/TiC多层膜性能[J].材料热处理学报,2014(4). |
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| 作者姓名： | 谢仕芳 张栋 孙丽丽 王振玉 魏仕勇 柯培玲 汪爱英 |
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| 作者单位： | 江西省科学院应用物理研究所;中科院宁波材料技术与工程研究所海洋新材料与应用技术重点实验室; |
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| 基金项目： | 全国科学院联盟建设专项项目(2012H009);宁波市创新团队资助项目(2011B81001) |
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| 摘 要： | 采用电弧离子镀技术制备TiN薄膜,研究了不同氮分压以及基体偏压下薄膜的表面质量、微结构、相组成、硬度以及结合力,优化工艺参数并制备TiN/TiC多层膜,比较了多层膜以及TiC单层膜的硬度以及摩擦性能的差异。结果表明,经过对不同工艺参数下薄膜的形貌结构以及性能比较,确定采用0.6 Pa氮分压以及-100 V基体偏压作为TiN优化工艺参数,在该工艺基础上制备的TiN/TiC多层膜与单层TiC薄膜相比具有更高的硬度以及更低的摩擦系数。
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| 关 键 词： | 电弧离子镀 TiN TiN/TiC多层膜 |
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