| (Ti,Al)N梯度薄膜中的残余应力分析 |
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| 引用本文： | 杨世伟,曾立云,王艳华,刘海涛.(Ti,Al)N梯度薄膜中的残余应力分析[J].材料热处理学报,2006,27(3):100-103. |
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| 作者姓名： | 杨世伟 曾立云 王艳华 刘海涛 |
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| 作者单位： | 哈尔滨工程大学机电学院,黑龙江,哈尔滨,150001 |
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| 基金项目： | 国防科技应用基础研究基金 |
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| 摘 要： | 采用电弧离子镀膜技术在1Cr11Ni2W2MoV不锈钢表面沉积了Ti1-xAlxN/Ti梯度薄膜.在700℃和800℃进行了高温氧化实验.对梯度薄膜常温和高温下的残余应力分布及薄膜和基体的结合状态进行了研究.研究结果表明,由于膜层是成分分别为Ti、TiN、Ti0.75 Al0.25 N、Ti0.6 Al0.4N和Ti0.5 Al0.5N梯度层组成,实现了成分和结构的梯度变化,各单层之间以及薄膜和基体之间的热膨胀系数不匹配程度降低,晶格错配度下降,薄膜中的残余应力降低;高温下,本征应力松弛,热应力转变为拉应力,薄膜和基体仍能维持较好的结合状态.
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| 关 键 词： | 电弧离子镀 (Ti Al)N梯度薄膜 残余应力 |
| 文章编号： | 1009-6264（2006）03-0100-04 |
| 收稿时间： | 2005-09-12 |
| 修稿时间： | 2005-09-122005-11-21 |
Analysis of residual stress of gradient TiAlN films prepared by arc ion plating |
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| YANG Shi-wei,ZENG Li-yun,WANG Yan-hua,LIU Hai-tao.Analysis of residual stress of gradient TiAlN films prepared by arc ion plating[J].Transactions of Materials and Heat Treatment,2006,27(3):100-103. |
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| Authors: | YANG Shi-wei ZENG Li-yun WANG Yan-hua LIU Hai-tao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | arc ion plating (Ti Al)N gradient films residual stress |
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