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高速喷射电沉积块体纳米晶Co-Ni合金
引用本文:乔桂英,荆天辅,高明,王艳,高聿为,韩东升.高速喷射电沉积块体纳米晶Co-Ni合金[J].材料热处理学报,2004,25(1):61-65.
作者姓名:乔桂英  荆天辅  高明  王艳  高聿为  韩东升
摘    要:采用自制的高速喷射电沉积装置制备厂块体纳米晶Co-Ni合金,利用SEM、TEM、XRD及EDS等方法研究了电流密度对沉积速率、电流效率及Co-Ni合金沉积层组织结构的影响,并与槽镀沉积层进行了对比。结果表明:采用该方法后允许使用的极限电流密度、沉积速率及电流效率均显著增大,沉积速率高达47.33μm/min,是一般槽镀的90倍左右。随着电流密度的增加,沉积速率呈近似线性增加,但电流效率增大到一定值后基本不变。电流密度对沉积层成分影响不大,但明显减小沉积层的晶粒尺寸。与一般槽镀相比.晶粒尺寸由23.07nm减小到918nm。

关 键 词:高速喷射电沉积  块体纳米晶Co-Ni合金  沉积速率  微观结构
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