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| 化学气相沉积法制备难熔金属的研究现状与前景 | |
| 作者单位： | ;1.国防科技大学空天科学学院 |
| 摘 要： | 难熔金属材料以其熔点高、高温性能好和耐腐蚀性优异等特点被广泛应用于航空航天、化学化工和国防军工等领域。化学气相沉积法是目前获得高纯致密、尺寸精确的难熔金属制品的最佳手段。本文介绍了钨、钼、钽、铌和铼五种难熔金属元素的应用领域,综述了采用不同的化学气相沉积法制备难熔金属及其合金的工艺、制品性能和具体用途,总结了金属源先驱体类型对化学气相沉积工艺的影响,分析展望了化学气相沉积法在制备难熔金属上的应用前景。 |
| 关 键 词： | 难熔金属 化学气相沉积 钨 铼 |
Research Status and Prospect of Preparation of Refractory Metals by Chemical Vapor Deposition |
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