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| 空心阴极离子镀沉积Ti（CN）的最佳工艺参数及其耐磨性能研究 | |
| 引用本文： | 陈罡,谭俊,朱绍华,张振学.空心阴极离子镀沉积Ti（CN）的最佳工艺参数及其耐磨性能研究[J].表面工程,1997(4):25-28. |
| 作者姓名： | 陈罡 谭俊 朱绍华 张振学 |
| 摘 要： | 运用正变试验洼进行了空心阴极离子镀(HCD)沉积Ti(CN)最佳工艺参数的研究。采用反应气体总分压，乙炔气与氯气的分压比及烘烤温度作为试验的三个变化的因素。比较了Ci(CN)TiN及TiC的耐磨性能，结果表明Ti（CN)膜比TiC，TiN膜性能更优异。用X射线衍射（XRD)分析了Ti(CN)膜层的相结构及组成。 |
| 关 键 词： | 离子镀 最佳工艺参数 空心阴极 耐磨性能 膜层 相结构 分压比 反应气体 乙炔气 CN |
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