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植酸自组装膜对白铜缓蚀作用的光电化学研究
引用本文:徐群杰,万宗跃,费琳,印仁和,周小金.植酸自组装膜对白铜缓蚀作用的光电化学研究[J].腐蚀科学与防护技术,2009,21(2):167-169.
作者姓名:徐群杰  万宗跃  费琳  印仁和  周小金
作者单位:1. 上海电力学院能源与环境工程学院上海高校电力腐蚀控制与应用电化学重点实验室,上海,200090
2. 上海电力学院能源与环境工程学院上海高校电力腐蚀控制与应用电化学重点实验室,上海,200090;上海大学理学院化学系上海,200444
3. 上海大学理学院化学系上海,200444
基金项目:国家自然科学基金,上海市教委霞点项目,上海市科技攻关计划,厦门大学固体表面物理化学国家重点实验室开放课题,上海市重点学科建设项目 
摘    要:用动电位伏安法和光电化学方法研究了植酸自组装单分子膜(SAMs)对白铜B30的缓蚀作用.结果表明,植酸分子易在白铜B30表面形成稳定的植酸SAMs,光电化学测试白铜B30表面膜显示p-型光响应,光响应来自电极表面的Cu2O层,植酸SAMs的形成使其光响应明显减弱,有良好的缓蚀效果,这与交流阻抗得到的结论一致,同时微分电容曲线表明植酸SAMs的形成改变了电极双电层结构,使得电容值减小,其缓蚀机理为化学吸附过程.

关 键 词:植酸  自组装膜  白铜B30  光电化学  腐蚀
收稿时间:2008-05-30
修稿时间:2008-08-26

PHOTOELECTROCHEMICAL STUDY OF CORROSION PERFORMANCE OF SELF-ASSEMBLED MONOLAYER OF PHYTIC ACID ON Cu-Ni ALLOY B30
XU Qun-Jie,WAN Zong-Yue,FEI Lin,YIN Ren-He,ZHOU Xiao-Jin.PHOTOELECTROCHEMICAL STUDY OF CORROSION PERFORMANCE OF SELF-ASSEMBLED MONOLAYER OF PHYTIC ACID ON Cu-Ni ALLOY B30[J].Corrosion Science and Protection Technology,2009,21(2):167-169.
Authors:XU Qun-Jie  WAN Zong-Yue  FEI Lin  YIN Ren-He  ZHOU Xiao-Jin
Affiliation:XU Qun-Jie1,WAN Zong-Yue1,2,FEI Lin1,YIN Ren-He2,ZHOU Xiao-Jin11.Key Laboratory of Shanghai Institutes , Universities for Electric Power Corrosion Control , Applied Electrochemistry,Department of Environment Engieering,Shanghai University of Electric Power,Shanghai 200090,2.Department of Chemistry,Shanghai University,Shanghai 200444
Abstract:The corrosion inhibition of the self-assembled monolayer of phytic acid on Cu-Ni alloy B30 in a solution of 0.075 mol/LNa2B4O7+0.15 mol/L H3BO3 with pH=8.5 was investigated by cyclic voltammetry and photocurrent response method.The results indicate that phytic acid is liable to interact with B30 resulting in formation of a complex on B30 surface with good resistance to rust and corrosion.The Cu-Ni alloy B30 electrode showed p-type photoresponse,which came from Cu2O layer on its surface.The photoresponse dec...
Keywords:Phytic acid  SAMs  Cu-Ni alloy B30  photoelectrochemistry  corrosion  
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