| Ni /Ti 多层膜界面状态优化分析 |
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| 引用本文： | 严彪杰,张向东,白彬,杨飞龙.Ni /Ti 多层膜界面状态优化分析[J].表面技术,2014,43(5):47-50,86. |
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| 作者姓名： | 严彪杰 张向东 白彬 杨飞龙 |
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| 作者单位： | 1. 表面物理与化学国家重点实验室,四川 绵阳,621907
2. 中国工程物理研究院,四川 绵阳,621900 |
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| 摘 要： | 目的减小Ni/Ti多层膜表面粗糙度,提高Ni/Ti多层膜对中子束的反射率。方法采用离子束辅助沉积设备沉积Ni/Ti周期性多层膜,通过不同抛光时间和不同离子能量轰击对多层膜界面进行清洗抛光;采用反应溅射法,在镀Ti层时使用氢气和氩气混合气为工作气体,将H原子掺入Ti层以改变晶粒结构而影响多层膜界面状态。结果随着辅助离子源功率的增加,Ni/Ti多层膜的表面粗糙度增加;在合适的离子能量下,随着抛光时间的不断增加,Ni/Ti多层膜的表面粗糙度逐渐减小。Ti层中掺H的Ni/Ti多层膜比未掺H的多层膜表面粗糙度小,界面更加清晰。结论低能量的离子轰击条件下,适当的抛光时间能对多层膜实现较好的抛光效果。Ti层中掺入H原子,抑制了Ni原子与Ti原子的扩散,减小了Ti膜层晶粒大小,从而抑制了表面粗糙度的增加。
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| 关 键 词： | 中子超镜 Ni/Ti多层膜 粗糙度 离子抛光 反应溅射 |
| 收稿时间： | 2014/4/22 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2014/6/11 0:00:00 |
Optimizing Analysis of Interface State of the Ni /Ti Multilayer Films |
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| YAN Biao-jie,ZHANG Xiang-dong,BAI Bin and YANG Fei-long.Optimizing Analysis of Interface State of the Ni /Ti Multilayer Films[J].Surface Technology,2014,43(5):47-50,86. |
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| Authors: | YAN Biao-jie ZHANG Xiang-dong BAI Bin and YANG Fei-long |
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| Affiliation: | Science and Technology on Surface Physics and Chemistry Laboratory, Mianyang 621907, China;China Academy of Engineering Physics, Mianyang 621900, China;Science and Technology on Surface Physics and Chemistry Laboratory, Mianyang 621907, China;Science and Technology on Surface Physics and Chemistry Laboratory, Mianyang 621907, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | neutron super-mirrors Ni /Ti multilayer films roughness ion polishing reactive sputtering |
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