| 双氧水在铜纳米粒子催化刻蚀n型单晶硅中的影响研究 |
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| 引用本文： | 洪世豪,郑达敏,马亮,李绍元,陈秀华,马文会.双氧水在铜纳米粒子催化刻蚀n型单晶硅中的影响研究[J].表面技术,2022,51(1):257-264. |
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| 作者姓名： | 洪世豪 郑达敏 马亮 李绍元 陈秀华 马文会 |
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| 作者单位： | 昆明理工大学 冶金与能源工程学院，昆明 650093;湖南红太阳光电科技有限公司，长沙 410205;云南大学 材料与能源学院，昆明 650091 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(51974143，51904134);云南省科技重大专项(2019ZE007);云南省重点研发计划(202103AA080004，202102AB080016) |
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| 摘 要： | 目的 在反应速率温和的前提下,在n型单晶硅片表面制备低反射率的纳米倒金字塔绒面,研究H2O2浓度对铜纳米颗粒的沉积及刻蚀行为的影响.方法 利用铜纳米粒子催化刻蚀方法对金刚线切割n型单晶硅进行表面织构化处理,利用扫描电子显微镜观察制绒后硅片表面微观形貌,利用紫外-可见分光光度计测试并计算硅片表面反射率,并分析铜催化刻蚀形...
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| 关 键 词： | 铜纳米颗粒 刻蚀速率 反射率 倒金字塔 铜催化化学刻蚀 |
| 收稿时间： | 2020/12/26 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2021/9/29 0:00:00 |
Study on the Influence of Hydrogen Peroxide on Nano-Cu Catalyzed Etching of n-Type Single Crystal Silicon |
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| HONG Shi-hao,ZHENG Da-min,MA Liang,LI Shao-yuan,CHEN Xiu-hu,MA Wen-hui.Study on the Influence of Hydrogen Peroxide on Nano-Cu Catalyzed Etching of n-Type Single Crystal Silicon[J].Surface Technology,2022,51(1):257-264. |
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| Authors: | HONG Shi-hao ZHENG Da-min MA Liang LI Shao-yuan CHEN Xiu-hu MA Wen-hui |
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| Affiliation: | School of Metallurgy and Energy Engineering, Kunming University of Science and Technology, Kunming 650093, China;Hunan Red Sun Optoelectronic Technology Co., Ltd., Changsha 410205, China;School of Materials and Energy, Yunnan University, Kunming 650091, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | copper nanoparticle etching rate reflectivity inverted pyramid copper-catalyzed chemical etching |
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