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类金刚石薄膜硬度的研究
引用本文:蔡长龙,王季梅,杭凌侠,严一心,徐均琪.类金刚石薄膜硬度的研究[J].表面技术,2002,31(3):9-11.
作者姓名:蔡长龙  王季梅  杭凌侠  严一心  徐均琪
作者单位:1. 西安交通大学电气工程学院,陕西,西安,710049;2. 西安工业学院光电科学与工程系,陕西,西安,710032
基金项目:陕西省自然科学基金;2000C25;
摘    要:采用脉冲真空电弧离子源镀制了类金刚石薄膜,研究了影响类金刚石薄膜硬度的各种因素,包括:基片温度、主回路电压、清洗时间、膜层厚度和脉冲频率等,分析了各种镀制参数对薄膜硬度的影响机理,找出了最佳镀制工艺参数.

关 键 词:类金刚石薄膜  脉冲电弧  硬度  工艺参数
文章编号:1001-3660(2002)03-09-03

Study on Hardness of Diamond-like Carbon Film
CAI Chang long ,WANG Ji mei ,HANG Ling xia ,YAN Yi xin ,XU Jun qi.Study on Hardness of Diamond-like Carbon Film[J].Surface Technology,2002,31(3):9-11.
Authors:CAI Chang long  WANG Ji mei  HANG Ling xia  YAN Yi xin  XU Jun qi
Affiliation:CAI Chang long 1,WANG Ji mei 1,HANG Ling xia 2,YAN Yi xin 2,XU Jun qi 2
Abstract:The diamond like carbon (DLC) film deposited by pulsed vacuum arc ion source, and the influences of various factors including substrate temperature, main loop voltage, clearing time, film thickness and pulsed frequency on DLC film hardness have been researched. Finally, the optimum deposition parameter has been found out.
Keywords:Diamond  like carbon (DLC) film  Pulsed arc  Hardness  Technical parameter
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