化学镀钯拖缸现象的电化学研究

目的 用电化学的方法探究化学镀钯出现拖缸现象的原因 方法 通过开路电位方法探测化学镀钯的引发过程，利用线性扫描伏安法测量极化曲线。在测量阳极极化曲线时不加入钯盐;在测量阴极极化曲线时，不加入次亚磷酸钠。分别求得次亚磷酸钠的起始氧化的电位(EO)、钯离子的起始还原电位(ER)随温度变化的关系曲线，以及甘氨酸浓度对EO和ER的影响，并且采用化学镀实验，研究钯层厚度变化与甘氨酸浓度的关系。结果 发现第1次使用和多次使用的化学镀钯液对引发钯沉积的快慢存在差异，即存在拖缸现象。在镀钯过程中，温度越高，镀液活性越强，越不容易出现拖缸现象，同时稳定性也会下降。在电化学实验中发现，EO随着温度的升高而负移，ER随着温度的升高而正移，二者的差值|ΔE|总体上随着温度的升高而减小。ΔE可以反映镀液的稳定性和衡量化学镀钯引发的难易程度。ΔE<0意味着镀液稳定，化学镀钯需要在催化剂表面引发。当|ΔE|≤0.73 V时，化学镀钯可以正常引发。当|ΔE| >0.73 V时，引发过程存在拖缸现象。甘氨酸的浓度可以影响ΔE。当甘氨酸的质量浓度接近10 g/L时，拖缸现象不明显，无甘氨酸或者其质量浓度大于20 g/L时，容易出现拖缸现象。结论 ΔE的值与化学镀钯液的稳定性和拖缸现象是否发生有关。

Electrochemical Study on Dummy Plating in Electroless Palladium Plating