| 脉冲占空比对纯铝微弧氧化膜的影响 |
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| 引用本文： | 翁海峰,陈秋龙,蔡珣,鲍明东.脉冲占空比对纯铝微弧氧化膜的影响[J].表面技术,2005,34(5):59-62. |
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| 作者姓名： | 翁海峰 陈秋龙 蔡珣 鲍明东 |
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| 作者单位： | 上海交通大学,上海,200030 |
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| 摘 要： | 为研究交流脉冲电源占空比的变化对纯铝微弧氧化的影响,设计了在恒流条件下(J=75mA·cm-2)进行从2%到18%不同占空比下对纯铝进行微弧氧化实验.研究发现,陶瓷膜的主要成分为稳定态的α-Al2O3和亚稳态的γ-Al2O3,随着占空比的提高,α-Al2O3逐渐成为氧化膜的主要成分,而氧化膜的表面则越来越粗糙.当占空比为10%时,得到最大的氧化膜厚度和最佳的氧化膜截面形貌.
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| 关 键 词： | 微弧氧化 脉冲 占空比 铝 氧化膜 脉冲占空比 纯铝 微弧氧化膜 影响 Microarc Oxidation Cycles Pulse 截面形貌 最佳 氧化膜厚度 表面 亚稳态 稳定态 成分 陶瓷膜 发现 氧化实验 条件 恒流 设计 |
| 文章编号： | 1001-3660（2005）05-0059-04 |
| 收稿时间： | 2005-08-18 |
| 修稿时间： | 2005-08-18 |
Effects of Pulse Duty Cycles on Microarc Oxidation Formed on Al |
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| WENG Hai-feng,CHEN Qiu-long,CAI Xun,BAO Ming-dong.Effects of Pulse Duty Cycles on Microarc Oxidation Formed on Al[J].Surface Technology,2005,34(5):59-62. |
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| Authors: | WENG Hai-feng CHEN Qiu-long CAI Xun BAO Ming-dong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Microarc oxidation Pulse Duty cycle Al Oxide film |
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