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镀液组成和工艺条件对电沉积钴钨合金成分的影响
引用本文:黄丽红,葛洪良,崔玉建.镀液组成和工艺条件对电沉积钴钨合金成分的影响[J].表面技术,2003,32(2):41-43.
作者姓名:黄丽红  葛洪良  崔玉建
作者单位:中国计量学院,浙江,杭州,310014
基金项目:浙江省自然科学基金 ;RC01056;
摘    要:研究了镀液中钨盐浓度,络合剂浓度,钠离子,电流密度,镀液温度等对电沉积钴钨合金成份的影响,结果表明:合金中的钨含量随钨盐浓度,电流密度和温度的升高而增大,随络合剂,钠离子浓度的升高而降低。

关 键 词:电沉积  钴钨  合金成份
文章编号:1001-3660(2003)02-0041-03

Effects of Plating Baths and Process Conditions on Alloy Composition of Cobalt-tungsten Deposits
HUANG Li hong,GE Hong liang,CUI Yu jian.Effects of Plating Baths and Process Conditions on Alloy Composition of Cobalt-tungsten Deposits[J].Surface Technology,2003,32(2):41-43.
Authors:HUANG Li hong  GE Hong liang  CUI Yu jian
Abstract:The effects of tungsten salt, complex agent, sodium ion, current density and temperature on alloy composition of cobalt-tungsten deposits are studied in this paper. The results show that the tungsten content in cobalt-tungsten alloy increases with the increasing of tungsten salt concentration, current density and temperature, decreases with the increasing of complex agent and sodium ion concentration.
Keywords:Electrodeposition  Cobalt-tungsten  Alloy composition  
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