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磁控反应溅射沉积CrN薄膜的抗氧化性研究
引用本文:李钦虎,王军.磁控反应溅射沉积CrN薄膜的抗氧化性研究[J].表面技术,2005,34(6):40-41,44.
作者姓名:李钦虎  王军
作者单位:扬州大学机械工程学院,江苏,扬州,225009;扬州大学机械工程学院,江苏,扬州,225009
基金项目:扬州大学校科研和教改项目
摘    要:通过磁控反应溅射在H1模具钢表面沉积了CrN薄膜.用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)观察了试样的表面形貌,进行了物相分析,研究了CrN薄膜的抗氧化性能,讨论了膜层的抗氧化行为和机制.结果表明:在500℃以下,CrN膜层具有良好的抗氧化性,能大大提高基体的抗氧化性能.当温度超过600℃时,由于膜层产生剥落而失去使用性能.

关 键 词:磁控溅射  CrN薄膜  抗氧化性
文章编号:1001-3660(2005)06-0040-02
收稿时间:2005-08-10
修稿时间:2005-08-10

Oxidation Resistance of Magnetron Reactive Sputtering CrN Films
LI Qin-hu,WANG Jun.Oxidation Resistance of Magnetron Reactive Sputtering CrN Films[J].Surface Technology,2005,34(6):40-41,44.
Authors:LI Qin-hu  WANG Jun
Affiliation:School of Mechanical Engineering, Yangzhou University, Yangzhou 225009, China
Abstract:
Keywords:Magnetron sputtering  CrN film  Oxidation resistance
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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