| 化学气相沉积法制备 TiB2涂层工艺的研究 |
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| 引用本文： | 孙彩云,何庆兵,李立,张隆平,易同斌,吴护林.化学气相沉积法制备 TiB2涂层工艺的研究[J].表面技术,2013,42(1):81-84. |
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| 作者姓名： | 孙彩云 何庆兵 李立 张隆平 易同斌 吴护林 |
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| 作者单位： | 中国兵器工业第五九研究所,重庆,400039 |
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| 摘 要： | 以TiCl4-BCl3-H2为反应体系,采用化学气相沉积技术,在低碳钢和石墨表面成功沉积了TiB2涂层,并研究了沉积温度、气体流量和基体类型对涂层显微结构和显微硬度的影响.结果表明:沉积温度较高时,低碳钢表面的TiB2涂层晶粒取向随机,结晶度较好,沉积温度较低时则呈柱状晶,晶粒取向随机时的显微硬度高于呈柱状晶时的显微硬...
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| 关 键 词： | TiB2涂层 显微结构 沉积速率 |
| 收稿时间： | 2012/8/28 0:00:00 |
| 修稿时间： | 2012/10/26 0:00:00 |
Study on Chemical Vapor Deposition Process for TiB2Coating |
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| SUN Cai-yun,HE Qing-bing,LI Li,ZHANG Long-ping,YI Tong-bin and WU Hu-lin.Study on Chemical Vapor Deposition Process for TiB2Coating[J].Surface Technology,2013,42(1):81-84. |
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| Authors: | SUN Cai-yun HE Qing-bing LI Li ZHANG Long-ping YI Tong-bin and WU Hu-lin |
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| Affiliation: | (No.59 institute of china ordnance industry,Chongqing 400039,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TiB2coating microstructure deposition rate |
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