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TiN附着膜的应力-应变关系
引用本文:覃明,嵇宁,汪伟,陈昌荣,李家宝,马胜利.TiN附着膜的应力-应变关系[J].金属学报,2003,39(7):721-724.
作者姓名:覃明  嵇宁  汪伟  陈昌荣  李家宝  马胜利
作者单位:1. 中国科学院金属研究所沈阳材料科学国家(联合)实验室,沈阳 110016
2. LM3 ESA CNRS 8006, Ecole Nationale Supérieure D'Arts et Métiers, 151 Bd. de l'Hpital, 75013, Paris, France
3. 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安 710049
基金项目:国家自然科学基金59931010和50272067
摘    要:利用等离子体辅助化学气相沉积法(PACVD)在60Mn钢基片上沉积2.5μm厚的TiN膜.借助X射线应力分析技术和微拉伸设备,测量该附着膜纵向(加载方向)应力和横向应力及外载应变,进而求其等效应力-等效单轴应变关系,并由此算得它的条件屈服点σ0.1和σ0.2分别为4.2和4.4GPa,加工硬化指数为0.36.用纳米压痕仪测得其硬度为25GPa,弹性模量为420GPa.TiN膜在拉伸过程中发生了塑性变形.

关 键 词:TiN膜,双轴应力,应力-应变关系,  X射线拉伸实验,纳米压痕法
文章编号:0412-1961(2003)07-0721-04
修稿时间:2002年9月12日

Stress-Strain Relationship of a TiN Film Adherent to Substrate
QIN Ming,JI Ning.Stress-Strain Relationship of a TiN Film Adherent to Substrate[J].Acta Metallurgica Sinica,2003,39(7):721-724.
Authors:QIN Ming  JI Ning
Abstract:
Keywords:TiN film  biaxial stress  stress-strain relation  X-ray tensile test  nanoindentation
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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