| 氙离子辐照后Hastelloy N合金的纳米硬度及其数值模拟 |
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| 引用本文： | 刘继召,黄鹤飞,朱振博,刘阿文,李燕.氙离子辐照后Hastelloy N合金的纳米硬度及其数值模拟[J].金属学报,2020,56(5):753-759. |
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| 作者姓名： | 刘继召 黄鹤飞 朱振博 刘阿文 李燕 |
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| 作者单位： | 中国科学院上海应用物理研究所 上海201800;中国科学院大学核科学与技术学院 北京100049;上海科技大学物质科学与技术学院 上海201210;中国科学院上海应用物理研究所 上海201800;中国科学院大学核科学与技术学院 北京100049 |
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| 摘 要： | 利用纳米压痕仪的连续刚度测量模式测试了常温氙离子辐照后Hastelloy N合金的纳米硬度。结果表明,辐照样品的纳米硬度均大于未辐照样品的纳米硬度,且辐照剂量在0.5～3.0 dpa这一范围内时,辐照样品的纳米硬度处于饱和状态。在Nix-Gao模型的基础上,分离出未辐照样品和辐照样品的压痕尺寸效应,并通过VLM (volume law of mixture)模型来模拟实验测得的纳米硬度。由于随着压头压入深度的增加,塑性影响区中将同时包含辐照损伤层与基体,在VLM模型中引入"界面参数"(χ)以修正基体的形变量,改进后的模型能够更好地模拟纳米压痕的实验结果。
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| 关 键 词： | 辐照硬化 纳米压痕 VLM模型 数值模拟 |
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