Ta中氢化物沉淀过程的内耗研究 |
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引用本文: | 李广义,潘正良,王晓伟,肖金泉.Ta中氢化物沉淀过程的内耗研究[J].金属学报,1986(3). |
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作者姓名: | 李广义 潘正良 王晓伟 肖金泉 |
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作者单位: | 中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所,中国科学院金属研究所 |
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摘 要: | 测量了冷加工的高纯Ta丝在电解加氢前后的低频内耗。发现在加氢后除出现氢化物沉淀峰外,氢一位错交互作用的内耗峰也降低,附加范性扭形变对沉淀峰有明显的增强作用;在氧原子可动的温度范围内时效,可以完全消除形变对沉淀峰的增强作用。结果表明,氢化物可能择优在位错上沉淀。沉淀峰的本质可能与位错-氢化物交互作用有关。
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