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非平衡磁控溅射掺Ti类金刚石薄膜的结构分析
引用本文:聂朝胤,张碧云,谢红梅.非平衡磁控溅射掺Ti类金刚石薄膜的结构分析[J].金属学报,2007,43(11):1207-1210.
作者姓名:聂朝胤  张碧云  谢红梅
作者单位:1. 西南大学材料科学与工程学院,重庆,400715;日本等离子工学研究所,大阪,573-0128,日本
2. 西南大学材料科学与工程学院,重庆,400715
基金项目:重庆市自然科学基金 , 西南大学校科研和教改项目
摘    要:采用非平衡磁控溅射沉积技术在SCM415渗碳淬火钢基片上沉积了无氢Ti掺杂类金刚石(Ti-DLC)薄膜和无氢高纯类金刚石(DLC)薄膜,通过调节Ti靶的溅射功率使获得的Ti-DLC薄膜Ti含量(原子分数)为1.9%-34%.利用Raman分光光谱仪、XPS,XRD、显微硬度计及纳米划痕仪分析研究了Ti-DLC的组织结构、显微硬度及薄膜附着力.结果表明,利用非平衡磁控溅射得到的Ti-DLC薄膜,在Ti含量小于25%时,Ti-DLC薄膜仍具有类金刚石薄膜的sp2,sp3结构,但Ti的掺杂促进了sp3键向sp2键的转变.掺杂的Ti以TiC纳米晶的形式存在于非晶态的DLC中.掺杂Ti后薄膜的硬度明显降低,而薄膜附着力明显改善;但是当Ti含量超过3%后,薄膜附着力无明显变化,硬度逐渐回升.

关 键 词:非平衡磁控溅射  Ti掺杂类金刚石薄膜  微观结构  显微硬度  附着力  非平衡  磁控溅射  类金刚石薄膜  结构分析  MAGNETRON  SPUTTERING  DLC  COATINGS  ANALYSIS  回升  变化  改善  显微硬度计  非晶态  存在  纳米晶  转变  结果  薄膜附着力  组织结构  研究  纳米划痕
文章编号:0412-1961(2007)11-1207-04
修稿时间:2007-04-25

STRUCTURE ANALYSIS OF Ti-DOPED DLC COATINGS DEPOSITED BY UNBALANCED MAGNETRON SPUTTERING
NIE Chaoyin,ZHANG Biyun,XIE Hongme.STRUCTURE ANALYSIS OF Ti-DOPED DLC COATINGS DEPOSITED BY UNBALANCED MAGNETRON SPUTTERING[J].Acta Metallurgica Sinica,2007,43(11):1207-1210.
Authors:NIE Chaoyin  ZHANG Biyun  XIE Hongme
Affiliation:1. School of Materials Science and Engineering; Southwest University, Chongqing 400715 ;2. Ion Engineering Research Institute Corporation, Osaka 573-0128, Japan
Abstract:
Keywords:unbalanced magnetron sputtering  Ti-doped DLC  microstructure  microhardness  adhesion strength
本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录!
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