| 金刚石膜与硬质合金基体间的界面状态 |
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| 引用本文： | 匡同春,刘正义,代明江,周克崧,王德政.金刚石膜与硬质合金基体间的界面状态[J].金属学报,1998,34(7):779-784. |
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| 作者姓名： | 匡同春 刘正义 代明江 周克崧 王德政 |
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| 作者单位： | [1]华南理工大学机电系 [2]广州有色金属研究院 |
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| 基金项目： | 广东省科委基金!950263，广东省高教厅基金!960004 |
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| 摘 要： | 采用ＳＥＭ，ＴＥＭ对金刚石膜－硬质合金基体横截面的形态进行了研究，探讨了甲烷含量对ＣＶＤ金刚石膜－基横截面各组织层次的影响。结果表明，经化学侵蚀脱钴和等离子体刻蚀脱碳预处理的ＹＧ８硬质合金基体上所沉积的金刚石膜－基横截面组织的典型层次依次为：金刚石／薄的石墨碳中间层／细小的ＷＣ层／残留的脱碳层／残留的疏松层／ＹＧ８原始基体，甲烷含量对ＣＶＤ金刚石膜－基横截面各组织层次的形成有显著的影响。
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| 关 键 词： | 薄膜 CVD 金刚石膜 硬质合金 界面 横截面形貌 |
| 收稿时间： | 1998-07-18 |
| 修稿时间： | 1998-07-18 |
STUDY ON THE INTERMCIAL MORPHOLOGY AND STRUCTURE OF DIAMOND THIN FILM-CEMENTED CARBIDE SUBSTRATE |
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| KUANG Tongchun,LIU ZhengyiDAI Mingjiang,ZHOU Kesong,WANG Dezheng.STUDY ON THE INTERMCIAL MORPHOLOGY AND STRUCTURE OF DIAMOND THIN FILM-CEMENTED CARBIDE SUBSTRATE[J].Acta Metallurgica Sinica,1998,34(7):779-784. |
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| Authors: | KUANG Tongchun LIU ZhengyiDAI Mingjiang ZHOU Kesong WANG Dezheng |
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| Affiliation: | KUANG Tongchun,LIU Zhengyi(Department of Mechanical and Electric Engineering,South China University of Technology,Guangzhou )DAI Mingjiang,ZHOU Kesong,WANG Dezheng(Guangzhou Research Institute of Non-Ferrous Metals,Guangzhou ) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | CVD diamond thin film cemented carbide interface cross-sectional morphology |
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