| 等离子体旋转自耗电极端部熔池中的流场分析 |
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| 引用本文： | 何承群,胡本芙,国为民,陈生大.等离子体旋转自耗电极端部熔池中的流场分析[J].金属学报,2000,36(2):187-190. |
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| 作者姓名： | 何承群 胡本芙 国为民 陈生大 |
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| 作者单位： | 1. 北京科技大学材料系,北京,100083
2. 北京钢铁研究总院,北京,100081 |
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| 摘 要： | 运用Ｎｅｗｔｏｎ流体力学的微元法分析，通过对等离子体旋转自耗电极（ＰＲＥＰ）端部小熔池中液膜流动的稳态层流假设，建立了薄膜中流体运动的微分方程。并运用相关边界条件，得到了该微分方程的解析解，由此得到液膜厚度的表达式。该式表明液膜厚度与等离子体电弧功率。ＰＲＥＰ直径及旋转速度存在依赖关系，通过改变这些工艺参数，进行了实验验证，结果表明，实测的液膜厚度同理论计算值符合较好。
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| 关 键 词： | 流场分析 离心雾化 溶池 PREP 合金粉末 |
| 文章编号： | 0412-1961(2000)02-0187-04 |
| 修稿时间： | 1999年6月22日 |
ANALYSIS ON FLUID FIELD IN THE END OF PLASMA-ROTATING ELECTRODE |
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| HE Chengqun,HU Benfu,GUO Weimin,CHEN Shengda.ANALYSIS ON FLUID FIELD IN THE END OF PLASMA-ROTATING ELECTRODE[J].Acta Metallurgica Sinica,2000,36(2):187-190. |
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| Authors: | HE Chengqun HU Benfu GUO Weimin CHEN Shengda |
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| Keywords: | plasma-rotating electrode process fluid field analysis |
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