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低温等离子体增强化学气相沉积纳米结构碳化钨薄膜
引用本文:马淳安,王伟,郑华均.低温等离子体增强化学气相沉积纳米结构碳化钨薄膜[J].金属热处理,2006,31(2):20-23.
作者姓名:马淳安  王伟  郑华均
作者单位:1. 浙江工业大学,化工与材料学院,绿色化学合成技术国家重点试验室培育基地,浙江,杭州,310032
2. 浙江工业大学,化工与材料学院,绿色化学合成技术国家重点试验室培育基地,浙江,杭州,310032;浙江工业大学,之江学院,浙江,杭州,310024
摘    要:采用氟化钨(WF6)和甲烷为前驱体气体,以氩气为载气,在氢气氛下,采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法在低温下制备具有纳米结构的碳化钨薄膜。采用SEM、AFM、XRD、EDS等方法表征了碳化钨薄膜的形貌、晶体结构和化学组成,表明基体温度在450℃,甲烷与氟化钨气体流量比为10时得到的碳化钨薄膜是以直径为Ф40~80nm,高度为150~200nm的圆柱状的纳米晶粒聚合体组成。探讨了低温制备纳米结构碳化钨薄膜的机理,分析了基体温度对薄膜物相和微观结构的影响。

关 键 词:碳化钨  纳米晶薄膜  等离子体增强化学气相沉积
文章编号:0254-6051(2006)02-0020-04
收稿时间:2005-07-18
修稿时间:2005-07-18

PECVD Nanostructure Tungsten Carbide Thin Films at Low Temperature
MA Chun-an,WANG Wei,ZHENG Hua-jun.PECVD Nanostructure Tungsten Carbide Thin Films at Low Temperature[J].Heat Treatment of Metals,2006,31(2):20-23.
Authors:MA Chun-an  WANG Wei  ZHENG Hua-jun
Affiliation:1. College of Chemical Engineering and Material Science, Raising State Key Laboratory of Green Chemistry Synthesis Technology,Zhejiang University of Technology,Hangzhou Zhejiang 310032,China; 2. Zhijiang College,Zhejiang University of Technology, Hangzhou Zhejiang 310024, China
Abstract:
Keywords:
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