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《电镀与精饰》2010年第10期
摘    要:石墨基体上电沉积铜成核机理的研究通过循环伏安法和恒电位阶跃暂态法,研究硫酸铜/硫酸溶液中铜在石墨基体上的电沉积行为,并利用扫描电子显微镜观察石墨基体表面金属铜沉积颗粒的形态和分布。结果表明:在较正的电位区间内,铜的沉积遵从连续成核机理;而在较负的电位区间内,铜的沉积遵从瞬时成核机理。

关 键 词:成核机理  循环伏安法  电镀废水处理  扫描电子显微镜观察  恒电位阶跃  电沉积行为  钛合金  电沉积铜  化学镀铜  石墨
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