| 阴极电弧离子沉积TiN／Ti镀层腐蚀特性 |
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| 引用本文： | 鲜晓斌,王庆富,刘柯钊,刘清和.阴极电弧离子沉积TiN／Ti镀层腐蚀特性[J].稀有金属材料与工程,2005,34(11):1774-1777. |
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| 作者姓名： | 鲜晓斌 王庆富 刘柯钊 刘清和 |
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| 作者单位： | 中国工程物理研究院,四川,绵阳,621900 |
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| 摘 要： | 采用电化学线性极化、交流阻抗谱技术研究了不同基片偏压上阴极电弧沉积TiN/Ti镀层在50×10-6g/gCl-溶液中的腐蚀行为,并对镀层腐蚀的机理进行了探讨。结果表明:基片偏压–400V时,镀层耐蚀性能好;镀层表面的针孔是诱发镀层和基材体系发生点蚀、电偶腐蚀的主要缺陷。
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| 关 键 词： | 基片偏压 TiN／Ti镀层 针孔 腐蚀 |
| 文章编号： | 1002-185X(2005)11-1774-04 |
| 收稿时间： | 2003-12-26 |
| 修稿时间： | 2005-07-20 |
Corrosion Behavior of the Vacuum Cathodic Arc, Deposited TiN/Ti Coatings |
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| Xian Xiaobin,Wang Qingfu,Liu Kezhao,Liu Qinghe.Corrosion Behavior of the Vacuum Cathodic Arc, Deposited TiN/Ti Coatings[J].Rare Metal Materials and Engineering,2005,34(11):1774-1777. |
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| Authors: | Xian Xiaobin Wang Qingfu Liu Kezhao Liu Qinghe |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | substrates bias voltage TiN/Ti coatings surface work function pinhole corrosion |
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