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钼表面包埋渗法制备(Ti, Mo)Si2/MoSi2 涂层及其在1200 ℃周期性氧化环境下的氧化行为
引用本文:何浩然,刘奇,薄新维,王小宇,王焱辉,姚志远,韩校宇,刘成超.钼表面包埋渗法制备(Ti, Mo)Si2/MoSi2 涂层及其在1200 ℃周期性氧化环境下的氧化行为[J].稀有金属材料与工程,2021,50(11):3828-3836.
作者姓名:何浩然  刘奇  薄新维  王小宇  王焱辉  姚志远  韩校宇  刘成超
作者单位:重庆材料研究院有限公司,重庆 400707;重庆理工大学 化学化工学院,重庆 400054,重庆材料研究院有限公司,重庆 400707;国家仪表功能材料工程技术研究中心,重庆 400707;重庆理工大学 化学化工学院,重庆 400054,重庆材料研究院有限公司,重庆 400707;国家仪表功能材料工程技术研究中心,重庆 400707,重庆材料研究院有限公司,重庆 400707,重庆材料研究院有限公司,重庆 400707,重庆材料研究院有限公司,重庆 400707,重庆材料研究院有限公司,重庆 400707,重庆材料研究院有限公司,重庆 400707
基金项目:重庆市基础研究与前沿探索(cstc2019jcyj-msxm2574),核电重大科技专项(2017ZX06004004),北碚区技术创新与应用示范类项目(2020-4)
摘    要:利用连续沉积的包埋渗法,在钼表面制备了(Ti,Mo)Si2/MoSi2复合涂层。利用X射线衍射、扫描电子显微镜、能谱仪和热力学计算对涂层进行了表征与反应机理分析。结果表明,共沉积法无法实现Ti的有效沉积。先渗Ti、再渗Si的两步沉积工艺能有效制备Ti改性硅化物涂层。涂层分为3层,最外层为(Ti,Mo)Si2三元化合物层,次外层为MoSi2层,次外层与基体间为Mo5Si3过渡层。渗硅温度对涂层结构无明显影响。Ti改性硅化物涂层的生长速率略低于单一渗硅涂层的生长速率。(Ti,Mo)Si2/MoSi2复合涂层的形成由Ti、Si内扩散控制。Ti元素集中在涂层表层,Si元素通过(Ti,Mo)Si2化合物层与基体作用形成MoSi2层和Mo5Si3过渡层。渗Ti过程中,埋渗料间反应会引入游离态铝氟化物AlF3。在随后的渗硅过程中,游离态Al以Al3Mo的形式在(Ti,Mo)Si2层中靠近MoSi2层的上界面处析出。在1200 ℃周期性氧化过程中,(Ti,Mo)Si2/MoSi2复合涂层持续循环氧化180 h后未出现明显失重。(Ti,Mo)Si2层氧化形成的SiO2与TiO2致密复合氧化层能填充涂层表面裂纹,持续阻碍氧扩散,因此其在周期性氧化环境下的抗氧化性能显著优于单一渗硅涂层。

关 键 词:包埋渗  钼硅化物  钛改性  抗氧化
收稿时间:2020/9/7 0:00:00
修稿时间:2021/1/28 0:00:00
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